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金屬靶的應用

金屬靶是指用於薄膜制備技術如物理氣相沈積(PVD)或化學氣相沈積(CVD)的金屬材料。它們具有高純度、均勻性和良好的機械性能,廣泛應用於以下領域:

1.半導體工業:金屬靶是半導體工業中非常重要的材料。它們用於制備金屬薄膜,如鋁、銅、鈦、鉻等金屬薄膜,以及制造集成電路、顯示器件、太陽能電池等。

2.光學鍍膜:金屬靶也用於光學鍍膜領域。通過沈積金屬薄膜,可以實現透鏡、濾光片、反射鏡等光學元件的特定光學特性,如反射、透射、濾波等。

3.導電塗層:金屬靶在導電塗層中起著關鍵作用。例如,銅靶可用於制備觸摸屏的導電膜、導電電極和導電材料。

4.金屬合金的制備:金屬靶可用於合金的制備。通過控制靶材的成分和沈積條件,可以制備特定成分和性能的金屬合金材料,如鎳鉻合金、鈷鉻合金等,用於航空航天、汽車制造、化工等領域。

5.硬質塗層:金屬靶也用於制備硬質塗層。如鎢靶可用於制備碳氮化鎢(WCN)塗層,提高工模具的硬度和耐磨性,延長其使用壽命。

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