1.半導體工業:金屬靶是半導體工業中非常重要的材料。它們用於制備金屬薄膜，如鋁、銅、鈦、鉻等金屬薄膜，以及制造集成電路、顯示器件、太陽能電池等。
2.光學鍍膜:金屬靶也用於光學鍍膜領域。通過沈積金屬薄膜，可以實現透鏡、濾光片、反射鏡等光學元件的特定光學特性，如反射、透射、濾波等。
3.導電塗層:金屬靶在導電塗層中起著關鍵作用。例如，銅靶可用於制備觸摸屏的導電膜、導電電極和導電材料。
4.金屬合金的制備:金屬靶可用於合金的制備。通過控制靶材的成分和沈積條件，可以制備特定成分和性能的金屬合金材料，如鎳鉻合金、鈷鉻合金等，用於航空航天、汽車制造、化工等領域。
5.硬質塗層:金屬靶也用於制備硬質塗層。如鎢靶可用於制備碳氮化鎢(WCN)塗層，提高工模具的硬度和耐磨性，延長其使用壽命。