1.美國專利商標局建議的章節布局(但不是嚴格要求的)需要包括:發明名稱、發明背景技術、發明概述、附圖簡述、發明詳述、權利要求書、公開內容摘要、附圖等。
2.在準備進入美國的專利申請文件時，申請人有許多不同於中國的寫作技巧。
3.撰寫發明的背景技術部分時，應註意以下問題:不要寫得太詳細和具體，發明的技術領域和相關現有技術的說明..