尼康的掩膜版光刻機支持14nm工藝。光刻機又稱掩模對準曝光機、曝光系統和光刻系統，是制造芯片的核心設備。它使用類似於照片印刷的技術，通過曝光將掩模上的精細圖案印刷到矽片上。光刻機品牌眾多，根據技術路線的不同可以分為以下幾類:高端投影光刻機分為步進投影和掃描投影光刻機兩種，分辨率通常在七納米到幾微米之間。高端光刻機被稱為世界上最精密的儀器，世界上有價格1.2億美元的光刻機。高端光刻機堪稱現代光學產業之花，其制造難度之大，全球只有少數幾家公司能夠制造。國外品牌主要是荷蘭的阿斯麥(鏡頭來自德國)、日本的尼康(高端光刻機，英特爾曾經從它手裏買過尼康)和日本的佳能。位於中國上海的SMEE公司開發了具有自主知識產權的投影式中檔光刻機，形成了產品系列，初步實現了國內外銷售。R&D和其他系列產品的生產正在進行中。用於生產線和R&D的低端光刻機是接近式和接觸式光刻機，分辨率通常在幾微米以上。主要有德國sus，美國MYCRONXQ4006，中國品牌。
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