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專利侵權的構成要件是什麽?

專利侵權的構成要件:

(壹)專利侵權的客體應當為在我國享有專利權的有效專利;

(二)行為人客觀上具有未人未經專利權人許可,有以營利為目的實施專利的行為;

(三)行為人主觀上有侵犯專利權的過錯以及生產經營的目的。

法律依據

2021年6月1日生效的《中華人民***和國專利法》第十壹條

發明和實用新型專利權被授予後,除本法另有規定的以外,任何單位或者個人未經專利權人許可,都不得實施其專利,即不得為生產經營目的制造、使用、許諾銷售、銷售、進口其專利產品,或者使用其專利方法以及使用、許諾銷售、銷售、進口依照該專利方法直接獲得的產品。

外觀設計專利權被授予後,任何單位或者個人未經專利權人許可,都不得實施其專利,即不得為生產經營目的制造、許諾銷售、銷售、進口其外觀設計專利產品。

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