導絲dsa屏蔽路徑模式

方法是通過光學投影將掩模上的圖案投影到樣品表面進行圖案轉移。在導絲DSA中，電子束由電子掩模對準器控制，圖案直接寫在樣品表面。該技術具有高分辨率、高精度和高靈活性的優點，可以實現非常復雜的微納結構。直寫光束光刻和掩模光刻是兩種常用的微納加工技術。

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