等離子拋光的原理

輝碟自動化科技有限公司已成功開發出專利產品全自動等離子納米拋光設備。等離子納米拋光是壹種全新的金屬表面處理工藝——僅在工件表面的分子層與等離子反應，分子中原子壹般間距為0.1-0.3納米，處理深度為0.3-1.5納米。拋光物的表面粗糙度在1mm範圍內，因此等離子納米拋光處理可以化學活化工件表面，去除表面分子汙染層，交叉鏈接表面化學物質。輝碟公司進壹步研發出納米拋光液配方，在拋光液成本上進壹步降低，使拋光效果進壹步優化

等離子拋光原理

等離子也稱為物質的第四態，是壹種電磁氣態放電現象，使氣態粒子部分電離，這種被電離的氣體包括原子、分子、原子團、離子和電子。等離子就是在高溫高壓下，拋光劑水溶，在高溫高壓下，電子會脫離原子核而跑出來，原子核就形成了壹個帶正電的離子，當這些離子達到壹定數量的時候可以成為等離子態，等離子態能量很大，當這些等離子和要拋光的物體摩擦時，頃刻間會使物體達到表面光亮的效果。