光刻機是掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等，是制造芯片的核心裝備。
它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到矽片上。光刻機的品牌眾多，根據采用不同技術路線的可以歸納成步進投影和掃描投影光刻機兩種，分辨率通常七納米至幾微米之間，高端光刻機號稱世界上最精密的儀器，世界上已有1.2億美金壹臺的光刻機。
高端光刻機堪稱現代光學工業之花，其制造難度之大，全世界只有少數幾家公司能夠制造。國外品牌主要以荷蘭ASML（鏡頭來自德國），日本Nikon（intel曾經購買過Nikon的高端光刻機）和日本Canon三大品牌為主。
光刻機性能指標
光刻機的主要性能指標有：支持基片的尺寸範圍，分辨率、對準精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產效率等。
分辨率：是對光刻工藝加工可以達到的最細線條精度的壹種描述方式，光刻的分辨率受受光源衍射的限制，所以與光源、光刻系統、光刻膠和工藝等各方面的限制。
對準精度：是在多層曝光時層間圖案的定位精度。
曝光方式：分為接觸接近式、投影式和直寫式。
曝光光源波長：分為紫外、深紫外和極紫外區域，光源有汞燈，準分子激光器等。
對準系統：制造高精度的對準系統需要具有近乎完美的精密機械工藝，這也是國產光刻機望塵莫及的技術難點之壹，許多美國德國品牌光刻機具有特殊專利的機械工藝設計。
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