計算光刻和opc有什麽區別？

1，OPC技術通過調整掩模圖形的透過率分布來校正光學鄰近效應，從而提高成像質量。

2.計算光刻是利用計算機模擬光刻過程的光化學反應和物理過程，從理論上指導光刻工藝參數的優化。