技術曝光後能申請專利麽

根據專利法，以下三種的公開視為不破壞新穎性：1、他人未經申請人同意的將技術方案公開，申請人在公開後6個月內申請專利的；2、申請人在國家承認的學術會議、技術會議上公開技術方案，在首次公開後6個月內申請專利的；3、申請人參加由國家舉辦或者國家承認的展會，在展會上公開技術方案的，並在首次公開後6個月內申請專利的。

除以上3種情況，其余公開均破壞在後申請的新穎性。