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人類在研究光刻機時面臨的最大問題是什麽?

我們國家壹直在走過來,壓力也壹直很大。技術封鎖之類的新聞平時看起來不算新聞,但都是舊聞了。目前,mask aligner的技術在荷蘭最有發言權。如果能與之合作,必將加速我國芯片研究的進程。但是國與國之間的合作並不簡單。由於美國的壓迫,相關技術被封鎖至死。所以中國的投資很強,但是沒有相應的技術,連制造業項目都很難啟動。爭取突破並不是奇跡,但在妳對對方的系統沒有完全了解之前,邁出第壹步是很難的。

沒有參照物。近年來中國的快速發展其實來自於早期引進後的模仿,但既然中國在這壹領域已經落後了幾十年,沒有參考資料怎麽發展?從壹張白紙到精彩的兩分鐘很難,更難的是“獨自打破世界”。光刻不是壹種技術,而是壹種聚合技術。壹個阿斯麥光刻機大概有8萬個零件,相關技術也是很多科研公司聯合的結果。有人形容阿斯麥光刻機是人類高度智慧作品的集合,甚至是藝術品本身。找什麽科技公司合作只是壹方面的接觸,對這個科技集合的產品起不了多大作用。

技術之所以難以突破,是因為光刻機的研究難度非常高,先進的光刻機不是壹個國家能做到的,這大大戳中了中國芯片產業的軟肋。也就是說,在這種發展難度下,中國要想實現自主芯片的安全可控,國產光刻機必須沿著曲線超車。

要突破先進光刻機相關技術的壟斷。荷蘭阿斯麥成立於1984,至今已有36年歷史。在過去的30年裏,與光刻機相關的技術壹直牢牢地捆綁在阿斯麥的進口上,形成了技術領域的壟斷趨勢。我國的光刻企業要想突破空白中間層的技術壁壘,避開阿斯麥擁有的專利,難度會有多大。中國在光刻領域起步相對較晚,美國的封鎖,使得行業的發展道路更加曲折。如果有壹天,中國在高端光刻領域有所突破,美國是最警惕的。中國的華為就是最明顯最實際的例子。

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