作為真空斷路器，顧名思義，它的滅弧介質和絕緣介質都是高真空。要說它的發展，還得從1893說起，當時美國人裏頓豪斯獲得了壹項專利，就是他提出了真空滅弧室的概念。1920中的真空開關是由瑞典Foga公司制造的。
真空斷路器
然後證明了1926在真空中破開電流是可能的。由於分斷能力不足以及真空技術和真空材料的限制，這壹研究成果無法應用於實際。
之後真空技術發展到壹定程度，也正因為如此，在50年代，美國做出了真空開關，可以有效的切斷電容器組。但作為第壹批成品，其開斷電流能力只有4 kA。
真空斷路器
隨著真空材料相關冶煉技術的不斷提高和真空開關觸頭結構的重大突破，情況發生了變化。1961年，真空斷路器的開斷電流水平提高到12.5 kA..然後像26kA，31.5kA這樣的產品，在1966就做成功了。
真空斷路器
在20世紀80年代，該裝置具有100 kA的分斷能力。我國於1958年開始研制這種真空開關，並於1960年成功研制出600 A分斷能力的產品。隨著時間的推移，更高級別的斷路器不斷得到發展。
真空斷路器
上面我們介紹了真空斷路器的發展歷程，可以說是非常艱難的。任何新產品的研發都是經過無數次失敗後獲得的。我們知道這類產品目前在很多領域都有應用，其良好的性能也能給我們帶來巨大的使用價值，所以這樣的研究是值得的。
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