光刻機和刻蝕機的區別：
刻蝕相對光刻要容易。光刻機把圖案印上去，然後刻蝕機根據印上去的圖案刻蝕掉有圖案（或者沒有圖案）的部分，留下剩余的部分。
光刻?是指在塗滿光刻膠的晶圓（或者叫矽片）上蓋上事先做好的光刻板，然後用紫外線隔著光刻板對晶圓進行壹定時間的照射。原理就是利用紫外線使部分光刻膠變質，易於腐蝕。 刻蝕?是光刻後，用腐蝕液將變質的那部分光刻膠腐蝕掉（正膠），晶圓表面就顯出半導體器件及其連接的圖形。然後用另壹種腐蝕液對晶圓腐蝕，形成半導體器件及其電路。1944年，尹誌堯出生在北京的壹個愛國家庭，他的祖父是公費留學生，父親也曾留學日本然後又回到祖國，為國家做貢獻。
1962年尹誌堯順利考入中國科學技術大學化學物理系，1968年順利畢業後，他先後分配到蘭州煉油廠和中科院蘭州物理化學所工作，1978年，尹誌堯再接再厲又進入到北京大學化學系攻讀碩士學位，1980年他又前往美國加利福尼亞大學洛杉磯分校，繼續深造在獲得物理化學博士學位。
之後尹誌堯在矽谷工作了20年在此期間先進入到英特爾公司，1986年尹誌堯受邀加入到L5M，主要負責等離子體刻蝕設備的研發，1991年應用材料公司請他擔任等離子刻蝕總部的工程及技術主管。為了避免知識產權方面的問題，他帶領團隊從頭開始，僅用了九年時間，就讓應用材料公司占據國際刻蝕機設備市場的40%
尹誌堯在半導體行業，有86項美國專利，和200多項各國專利，並被公認為是矽谷最有成就的華人之壹。
然而就在60歲退休之際，尹誌堯做出了壹個大膽的決定，他帶著自己的15人團隊回到了中國，2004年，他創辦了中微半導體公司，讓中國突破了刻蝕機的技術壟斷奠定了我國自主生產芯片的技術，如今，中微半導體公司生產的刻蝕機在米粒上刻壹億個字到十億個字的突破，而尹誌堯對祖國的貢獻還在繼續。