1，“接觸”，即接觸上壹部作品的機會；
2.“基本相似”是指應當受著作權保護的部分基本相似。
在確定原、被告作品是否“實質相似”時，應當將原告作品中受著作權保護的部分與被告作品中相應的部分進行比較，以確定兩者是否實質相似。
知識產權包括:專利權、著作權、防止不正當競爭、來源標誌、原產地名稱、商業秘密、商標權、制造商名稱、其他智力成果和植物新品種。知識產權是指通過智力勞動依法享有的專有權利。
根據《中華人民共和國著作權法》
第三條人民法院應當綜合考慮被侵權知識產權客體的類型、權利狀況和相關產品的知名度、被告與原告或者利害關系人的關系等因素。
在下列情況下，人民法院可以初步認定被告故意侵犯知識產權:
(壹)經原告或者利害關系人通知、警告，被告繼續實施侵權行為的；
(2)被告或其法定代表人或管理人是原告或利害關系人的法定代表人、管理人或實際控制人；
(3)被告與原告或利害關系人之間存在勞動、勞務、合作、許可、經銷、代理、代表關系，接觸過被侵權的知識產權；
(4)被告與原告或利害關系人有業務往來，或為訂立合同進行過談判，並接觸過被侵犯的知識產權；
(5)被告有盜版或假冒註冊商標的行為；
(六)其他可以認定為故意的情形。第四條人民法院應當綜合考慮侵權的手段和次數、侵權的持續時間、地域範圍、規模和後果、侵權人在訴訟中的行為等因素，認定侵犯知識產權行為的嚴重程度。
被告人有下列情形之壹的，人民法院可以認定情節嚴重:
(壹)因侵權行為受到行政處罰或者被法院判決追究責任後，再次實施相同或者類似侵權行為的；
(2)侵犯知識產權；
(三)偽造、銷毀或者隱藏侵權證據的；
(四)拒不履行保全裁定的；
(五)侵權行為獲利或者權利人遭受巨大損失的；
(六)侵權行為可能危及國家安全、公共利益或者人身健康的；
(七)其他可以認定為情節嚴重的情形。