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掩模對準器是芯片制造的關鍵。現在國內有哪些企業可以開發光刻機?

光刻機是芯片制造的關鍵設備。在中國R&D投資的公司有微電子設備(集團)有限公司、中科院長春光機所等。、以及合肥芯碩半導體有限公司、先騰光電科技有限公司、合肥芯碩半導體有限公司均有R&D和制造。但目前國內高端芯片的制造主要依靠荷蘭進口的光刻機。中國的光刻機在不斷發展,但遠遠落後於國際巨頭尼康佳能(中高端光刻機市場基本下滑)和阿斯麥(中高端市場幾乎壟斷)。

光刻機是芯片制造中的核心設備之壹,根據用途可以分為幾種類型:有用於生產芯片的光刻機;包裝用掩模對準器;還有壹種用於LED制造領域的投影掩模對準器。用於生產芯片的光刻機是中國半導體設備制造最大的短板。國內晶圓廠需要的高端光刻機完全依賴進口。光刻機被業界視為集成電路行業皇冠上的明珠,研發的技術門檻和資金門檻都很高。也正因為如此,能生產高端光刻機的廠家寥寥無幾。到目前最先進的14nm光刻機,只剩下阿斯麥,日本佳能和尼康已經基本放棄了第六代EUV光刻機的研發。相比之下,國內的光刻機廠商就很寒酸了。

上海微電子設備(集團)有限公司的光刻機主要應用於集成電路前電路、先進封裝、FPD、MEMS、LED、功率器件等制造領域。2018年出貨50-60臺左右。營業收入沒有公布,政府補貼很多。技術上處於領先地位的上海微電子設備有限公司量產性能最好的光刻機是90nm光刻機,所以制造工藝差距很大,國內晶圓廠需要的高端光刻機完全依賴進口。

2016 110 15,長春光機所牽頭承擔了國家科技重大專項極紫外光刻關鍵技術研究。該項目順利完成了驗收前的現場測試。在長春光機所、成都光電所、上海光機所、中科院微電子所、北京理工大學、哈爾濱工業大學、華中科技大學的共同努力下,經過8年的努力,我們圓滿完成了預定的研究內容和重點任務,突破了現階段制約我國極紫外光刻發展的核心光學技術, 並初步建立了適合極紫外光刻中曝光光學系統開發的加工、測試、鍍膜和系統集成平臺。

合肥新碩半導體有限公司成立於2006年4月,是中國第壹家半導體直寫光刻設備制造商。公司自主研發的ATD4000實現了高達200nm的量產。

無錫蘇櫻成立於2015年6月,蘇櫻公司是由中國科學院微電子研究所、行業資深技術團隊和產業基金共同發起成立的專業從事微電子設備的高新技術企業。膜速公司成功研發了半導體領域使用的激光直寫/制版光刻設備和國際首臺雙臺高速激光直接成像連接設備(LDI),並實現了200nm的最大量產。無錫蘇櫻成立於2015年6月,蘇櫻公司是由中國科學院微電子研究所、行業資深技術團隊和產業基金共同發起成立的專業從事微電子設備的高新技術企業。膜速公司成功研發了半導體領域使用的激光直寫/制版光刻設備和國際首臺雙臺高速激光直接成像連接設備(LDI),並實現了200nm的最大量產。

先騰光電成立於2013年4月,目前已實現最大200nm量產。在2014國際半導體設備及材料展覽會上,先騰光電展示了其擁有完全自主知識產權的LED光刻機生產技術,震驚了四人。

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