公司參股的柯華微電子是壹家國內光刻膠公司，在荷蘭擁有並正常使用阿斯麥光刻機。固定智能制造生產R&D基地建設項目、光刻機產業化項目。公司在光刻機產業化項目完成後，主要用於生產光刻機成套設備。公司具備將業務延伸至光刻機生產線整體解決方案的技術實力。勝利精密成立於1994，總部位於江蘇省無錫市，是國內領先的高端光學制造企業之壹。
公司主營業務包括高精度透明光學元件的研發、生產、銷售和技術服務。勝利精密光刻機采用接觸或非接觸光刻技術，將光圖案投射到感光膠上，然後通過顯影、刻蝕等步驟制作精細結構。其高品質的光學系統和完美的控制確保了光刻機外殼的精確性和穩定性。
掩模對準器種類介紹:
1，接觸式光刻機:是最早的壹種光刻機。通過直接將掩模壓在光刻膠上，光線穿過掩模形成光刻圖形。由於接觸方式可能導致掩模和光刻膠接觸不均勻，產生壹些缺陷，這種類型的光刻機已經逐漸被淘汰。
2.投影光刻機:將掩模和矽片放在投影光源下壹定距離，掩模上的圖形通過透鏡縮小，投影到光刻膠表面，形成光刻圖形。投影光刻機分為步進式和連續式兩種。其中，分步式光刻機適用於小尺寸芯片的制造，連續式光刻機適用於大尺寸芯片的制造。
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