公司位於有“中國南方矽谷”之稱的深圳高新技術產業園區。2007年投入使用的TFT-LCD掩膜版基地青壹光電大廈建築面積2.8萬平方米。壹期工程有1、10的凈化車間，號稱“中國第壹房”，超過800m2。公司分公司位於高新技術產業園區南區，占地4000平方米，其中900平方米；100級和1000級凈化車間內；公司擁有從瑞典、德國、日本、美國和以色列進口的精密光刻生產系統和配套設備。
公司產品主要應用於液晶顯示(LCD)和有機電致發光顯示(有機發光二極管)等平板顯示(FPD)行業、集成電路(ic)及相關行業、印刷電路板(PCB)行業和精細元器件行業，多次填補了國內空白:
TFT、彩色STN、STN和TNLCD鉻掩膜；
埃爾，有機發光二極管鉻掩模；PDP、VFD鉻掩膜；
IC封裝，HDI，包括鉻掩膜和BGA、CSP、BUMPING等幹掩膜；
用於MEMS、傳感器和ENCODZR等精細電子元件的鉻掩模；
液晶顯示器的固體浮雕和液體浮雕；
5438年6月+2008年2月，清逸光電首次被認定為“國家高新技術企業”。
2008年，TFT掩膜項目於4月通過專家組驗收，並順利通過當年中國大陸所有TFT客戶的認證。
5438年6月至2007年10月，深圳光掩模技術研發中心在清逸光電成立。
2007年8月，中國第壹條TFT-LCD用掩膜生產線——清逸光電TFT-LCD掩膜建成投產，中國第壹個大尺寸TFT-LCD陣列正式帶掩膜下線。
2007年8月，清漪樓正式竣工投入使用。它是R&D第壹個TFT-LCD掩模和中國大陸生產基地。
從5438年6月到2006年10月，國內第壹個大尺寸TFT-CF掩膜版在清壹研制成功。
2005年，ERP系統上線。
2005年，清逸開始引入TQM(全面質量管理)，並開始向日本戴明獎申報，向更高的管理水平邁進。
2004年，清壹成為廣東省乃至華南地區第壹家獲得國家質量管理獎的企業。
5438年6月至2002年2月，與中國科學院聯合成立青壹工程技術R&D中心，致力於新產品的開發研究，聘請國內外專家組成高級顧問團，為公司提供技術支持和決策支持。
2002年年中，清壹引進了國家質量管理獎的卓越績效模式，實現了質量管理零缺陷到管理質量零缺陷的跨越。
2000年5月，青壹開始實施零缺陷管理，創造性地將零缺陷理論應用於公司的全面管理。
1997年8月，清逸公司成立。