光刻機的作用是制造芯片，用途是芯片生產中用於光刻工藝。
光刻機決定了芯片的精密尺寸，設計師設計好芯片線路，再通過光刻機將線路刻在芯片上，其尺度通常在微米級以上。光刻機是芯片生產中最昂貴也是技術難度最大的設備，因為其決定了壹塊芯片的整體框架與功能。
其實生產高精度芯片並不難，只是生產速度太慢，而光刻機能快速生產高精度的芯片，所以很重要。利用光刻機發出的光通過具有圖形的光罩對塗有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光後會發生性質變化，從而使光罩上得圖形復印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用。
對準系統
制造高精度的對準系統需要具有近乎完美的精密機械工藝，這也是國產光刻機望塵莫及的技術難點之壹，許多美國德國品牌光刻機具有特殊專利的機械工藝設計。例如MycroN&Q光刻機采用的全氣動軸承設計專利技術，有效避免軸承機械摩擦所帶來的工藝誤差。
對準系統另外壹個技術難題就是對準顯微鏡。為了增強顯微鏡的視場，許多高端的光刻機，采用了LED照明。對準系統***有兩套，具備調焦功能。主要就是由雙目雙視場對準顯微鏡主體、目鏡和物鏡各1對（光刻機通常會提供不同放大倍率的目鏡和物鏡供用戶組合使用）。