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簡述專利侵權的構成條件

構成專利侵權的要件包括形式條件和實質條件。形式要素主要包括:

1,實施行為涉及有效的中國專利;

2.實施行為必須是未經專利權人許可或者授權;

3、實施行為必須以生產經營為目的。行為人是否具有主觀故意不是形式要件。

構成專利侵權的要件主要有以下幾種表現形式:

1.行為人涉及的技術特征與本專利的技術特征完全相同;

2.行為人涉及的技術特征多於專利的技術特征;

3.行為人所涉及的技術特征與本專利的技術特征相同和不同,但不同的技術特征與本專利的技術特征等同,仍構成侵權。

中華人民共和國專利法

第七十二條

專利權人或者利害關系人有證據證明他人正在實施或者即將實施侵犯專利權、阻礙其權利實現的行為,如不及時制止將使其合法權益受到難以彌補的損害的,可以在起訴前向人民法院申請采取財產保全、責令實施某種行為或者依法禁止某種行為的措施。

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