1、美國專利商標局建議的（但是並不是嚴格要求的）章節布局需要包括：發明的標題、發明的背景技術、發明的概要、附圖的簡要說明、發明的詳細說明、權利要求、公開內容的摘要、附圖等。
2、申請人在準備進入美國的專利申請文件時，有很多不同於中國專利申請文件的撰寫技巧。
3、在撰寫發明的背景技術部分時需要註意的問題是：不要寫得太詳細具體，發明的技術領域和對相關現有技術的說明。