佳能宣布，通過NIL納米壓印技術，2025年將制造出不使用EUV光刻機的5納米芯片。納米壓印技術類似於印刷技術。通過在特殊的“印記”上燒制電路圖案，然後將“印記”印在矽晶片上，就可以制造出芯片。而NIL納米壓印技術的難點在於如何在“印記”上燒出精細的電路圖案。
佳能目前有壹定的技術實力，與《鐵甲俠》合作，將NIL納米壓印技術應用於部分存儲芯片的制造。據說最近有了突破，所以佳能有信心在2025年制造5納米芯片，而不需要EUV光刻機。
中國納米壓印技術的進展
國內也有壹些公司在研究NIL納米壓印技術，但總體來說，國內技術相對落後。佳能在NIL納米壓印技術上擁有913項專利，幾乎占到全部專利的100%，可見其在該領域的絕對優勢。雖然中國的專利數量不如佳能，但也有公司取得了壹些成績。
如任天微納公司在DOE、AR/VR衍射光波導、線柵偏振、超級透鏡、生物芯片、LED、微透鏡陣列等領域都有類似技術。據說任天微納已經在150/300mm的襯底面積上實現了高精度的納米壓印，精度優於10nm。如果此消息屬實，國內NIL納米壓印技術有望達到5nm，從而減少對光刻機的依賴。