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趙宇航的個人成就

在R&D中心的工作中,趙宇航積極探索,試圖找到壹條新的R&D道路。他認為,良好的體制和運行機制是R&D中心實現良性循環發展的關鍵。在他們的努力下,R&D中心建立了現代企業制度,探索了產學研緊密結合的全新模式,在運營模式上走出了壹條國際合作與市場緊密結合的新路,努力為產業鏈的整體發展做出貢獻。第壹,國內外緊密結合。集成電路產業是壹個高度國際化的產業。可以說,不開展國際合作,“坐船出海”,就永遠拿不到進入國際集成電路產業“俱樂部”的船票。但是,國際合作並不是簡單地引進和吸收國外的先進技術。與以往的技術引進不同,R&D中心創造了壹種參與國際R&D並享受成果的新方式。可以在以較低成本掌握前沿技術的同時獲得自主知識產權。比如在工藝研發方面,R&D中心與歐洲最大的集成電路R&D機構比利時校際微電子R&D中心(IMEC)合作,將在4年內派出***40人研發世界領先的深亞微米CMOS標準工藝技術。通過該項目可形成200多項技術發明專利,培養R&D團隊建立工藝技術自主開發和升級的能力。在設計和研究方面,R&D中心與歐洲著名的無線通信技術研發機構ACREO合作。通過該項目,R&D中心將掌握無線通信領域最先進的技術和知識產權,並迅速形成自主核心技術和高水平的開發團隊。第二,R&D與市場緊密結合。作為產業研究機構,R&D中心必須避免R&D與市場脫節,面向產業需求,及時有效地將研究成果應用於生產。R&D中心首先將工藝研發的相關成果應用到華虹NEC生產線從DRAM到代工的工藝改造中,利用獲得的技術研發成果和技術團隊支撐華虹NEC的技術創新體系。通過與生產線的緊密合作,R&D中心也獲得了技術服務收入,為進入良性循環奠定了市場基礎。R&D中心還積極與SMIC和李鴻等生產線合作。第三,產學研緊密結合。R&D中心是由產學研共同投資的機構,具有良好的產學研緊密合作的制度基礎。在市政府相關部門和股東高校的大力支持下,高校相關R&D資源開始逐步向R&D中心開放,高校向集成電路R&D優勢區域集中,形成合力,為產業發展提供專業服務。R&D中心與股東高校成立了“校際R&D資源管理小組”,促進R&D資源的享受和深度利用;同時建立“校際研發基金”,由行業支持高校在特色領域的研究,更好地服務於行業;逐步探索項目管理、激勵等機制,形成產學緊密合作。

與國際上同類R&D機構相比,上海集成電路R&D中心存在資金匱乏、技術積累不足等壹系列問題。為了克服這些困難,真正起到推動產業發展的作用,我們需要強大的企業家精神。正如趙宇航反復強調的,我們應該有“開天辟地”的企業家精神。正是在這種精神的激勵下,趙宇航帶領技術研發團隊,打了壹場又壹場硬仗。獲得了與IMEC * *共同開發的0.18微米標準CMOS工藝技術,開發了0.13微米及以下工藝。獲得壹批自主知識產權,帶回31項專利,申請國內專利43項;在國內量產取得了階段性成果,在華虹NEC生產線從DRAM芯片向標準邏輯工藝代工加工生產線的轉型中發揮了重要作用。下壹代無線通信產品的SOC技術和IP技術研究已實質性開展,年底將取得階段性進展;還承擔了國家創新項目、863項目、電子基金開發項目等多項國家和地方重點項目。這壹系列的成績表明,R&D中心已經逐步走出了壹條新路,將進入發展的快車道。

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