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掩模對準器中國專利

國產光刻材料取得突破,傳統芯片將被取代。但國內企業也擴大了產能,中國芯片將彎道超車。

長期以來,我國用於生產芯片的光刻膠壹直被國外公司壟斷。光刻膠自研之後,又有壹項成果被國內科研人員打破,那就是光量子芯片。與傳統芯片相比,它的魔力在哪裏?

眾所周知,開發芯片需要的材料是光刻膠。目前全球高端光刻膠產品已被日本企業壟斷,國內使用的光刻膠90%需要進口。面對壟斷的壓力,國內光刻膠企業開始了自己的研發計劃。

近日,國內企業南大光電表示,現已建成可生產25噸光刻膠的生產線,大部分由國內企業提供,不存在被壟斷打壓的風險。

另壹家光刻膠公司景瑞承諾在2025年前投入4億元人民幣用於科研。2020年總投資3384萬元。截至年底,景瑞股份的專利項目已達72個。

除了光刻膠行業的快速發展,半導體領域也有好消息。中科大在絕緣體芯片中實現了量子幹涉,對光量子芯片的研發具有重要意義。

要知道,這是人類歷史上第壹次實現光量子信息的幹涉。消息壹經傳出,立即在國內外引起轟動。美國研究人員認為,光量子芯片將是未來取代矽基芯片的主要材料。

我國研制的光量子芯片是在矽基芯片的基礎上,利用光學和量子計算的知識進行集成,使芯片具有更高的精度、更好的使用穩定性和較強的信息保持能力,可以在惡劣環境下正常使用。

最重要的是,這種芯片的生產和研究根本不需要高端光刻機的參與。眾所周知,國內芯片技術水平已經被高端光刻機束縛,想有所突破已經來不及了。

由於尖端光刻機的短缺,國內對傳統芯片的依賴已經到了非常嚴峻的程度。例如,今年壹季度國內芯片采購量達到6543.8+055億,采購金額936億美元,折合人民幣6024億元,同比增長29.9%。

這個驚人的數據再次將芯片國產化的話題推到了風口浪尖,迫切需要實現芯片材料替代和自主研發。

要知道各國生產的芯片大多是矽基芯片。這類芯片有壹個特點,就是工藝水平越高,性能越好,但也更接近物理極限,也就意味著更難實現。

所以當矽基芯片發展到5nm工藝的水平,很難有更高的突破。所以,雖然臺積電和三星在爭奪3nm工藝的研發技術,但其他R&D團隊卻選擇了另壹種芯片研發方式。光量子芯片因為不需要光刻機的參與,必然會成為未來半導體的主要方向。

但是目前雖然頂級芯片的技術已經無限接近物理極限,很難有更高的突破,但是汽車、家電等領域仍然依賴於成熟的技術芯片,所以矽基芯片仍然需要擴大產能。

現在國內很多企業都開始了產能擴張計劃。近日,華潤微已表示,計劃投資75.5億元打造晶圓生產鏈,正式運營後預計每月可生產3萬片芯片。

另壹個巨人SMIC繼續發力。2020年將不斷擴大產能。今年將實現12英寸晶圓月產能翻倍。隨著產能的擴大,上半年營收勢必再創新高,預計在1580億元左右。

目前國產芯片的發展趨勢是齊心協力擴大成熟芯片的產能,盡力發展高端芯片的技術,同時不忘變道超車,用最新的材料開發芯片。希望在這三個方面的發展下,國產芯片能有不壹樣的成就。

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