真空斷路器，“高壓真空斷路器”因其滅弧介質和滅弧後觸頭間隙的絕緣介質均為高真空而得名；真空斷路器具有體積小、重量輕、適合頻繁操作、無需維護即可滅弧等優點，在配電網中得到廣泛應用。發展簡史1893，美國裏頓豪斯提出了壹種結構簡單的真空滅弧室，並獲得了外觀設計專利。1920年，瑞典Foga公司首次制造出真空開關。1926發表的研究成果也表明了在真空中開斷電流的可能性，但由於開斷能力小，受真空技術和真空材料發展水平的限制，無法投入實際使用。
隨著真空技術的發展，美國在50年代制造了第壹批適用於切斷電容器組等特殊要求的真空開關，開斷電流還在4 kA的水平。由於真空材料冶煉技術的進步和真空開關觸頭結構研究的突破，1961年，開始生產15 kV、開斷電流12.5 kA的真空斷路器。15kV、26kA、31.5kA真空斷路器於1966年試制成功，使真空斷路器進入高電壓、大容量的電力系統。80年代中期，真空斷路器的開斷能力已經達到100 kA。我國從1958開始研制真空開關。1960年，Xi交大和Xi安開關整流器廠研制出第壹批6.7 kV、600 A分斷能力的真空開關。然後制作了65438±00kV、分斷能力為65438±0.5 kA的三相真空開關。1969華光電子管廠和Xi安高壓電器研究所制造了10 kV、2 kA單相快速真空開關。自20世紀70年代以來，中國已經能夠獨立開發和生產各種規格的真空開關。