壹、疏水性二氧化矽：
疏水性二氧化矽又稱矽烷處理的二氧化矽（silica by silane treatment）或表面處理的二氧化矽（silica by surface treatment）。白色無定形微細粉末。
具有疏水性。溶於苛性鉀（鈉）。不溶於水和酸。無毒。無味。無腐蝕性。不燃燒，無氧化性。高溫不分解。由稀釋的水玻璃經離子交換除去鈉離子，加入鹽酸進行酸熱回流濃縮，加入二甲基二氯矽烷單體溶劑進行疏水化處理，脫除溶劑後幹燥制得。主要用作矽橡膠補強劑，塑料填料，以及塗料和油墨的增稠劑等。
二、疏水性二氧化矽及其制造方法
二氧化矽(Silica)用途非常廣泛，在塗料，油墨、塑料、橡膠及化妝品，都常常添加二氧化矽以增加性能，如吸油、消光、強化機械性......等，並且可以降低成本。其表面性能必須符合被添加物的特性，以便能均勻分散。壹般工業級二氧化矽，由於制備工藝不同，可分為二種，壹種為幹式，燒結型(Fume Type)，壹種為濕式，沈澱型(Precipitated Type)，二者的表面積不同，其表面帶有的羥基(-OH)也有相同，壹般來說，前者較少，後者較多，二者表面皆偏向親水性，如應用於親油性高分子中，如塗料，橡膠......等，若將二氧化矽表面預先處理成疏水性，有較好的效果。
壹般最簡單的方法，如趙承琛教授的著作“界面科學基礎中，分散原理與應用”篇中提及，利用固體表面對表面活性劑的吸咐，改變固體表面的極性。如硬酯酸鋅溶於極性溶劑中，加入二氧化矽，除去溶劑，則鋅離子部分朝向二氧化矽，硬酯酸烷基部分，則朝向外部，而形成粒子表面疏水性，或二氧化矽加入有機矽化合物，矽原子上的甲氧基或乙氧基，會與二氧化矽表面的羥基(-OH)反應，而有機部分(乙烯基、環氧基、丙烯基(亞克力基)......)則朝向外，不僅使二氧化矽表面呈疏水性，更具反應性，可與親油性高分子等部分交鏈，而增加其機械強度。
上述二氧化矽，由親水性轉為疏水性的方式包括二氧化矽表面布滿了有機脂肪烷基；西德專利1163784號，利用二甲基二氯矽烷(Dimethyl Dichlorosilane)，直接高壓合成；日本昭61-50882號，為針對西德專利1163784號，在制備過程中產生副產物及氯化氫的缺點而改善的方法；以及以端基帶有三個Si-OH的二甲基聚矽氧烷寡聚物處理的二氧化矽。上述各種方法，均使二氧化矽表面呈疏水性質，但並沒有很好的消泡功能。
本發明目的在於提供壹種表面接枝聚矽氧烷的二氧化矽。表面積為100～400m2/G，表面具疏水性且兼具消泡功能，制備工藝簡單，在常壓，100℃以下操作，且不產生副產品(如氯化氫)。
本發明是提供壹種表面接枝矽氧烷的疏水性二氧化矽固體粉末。不論幹式制法燒結型二氧化矽或濕式制法沈澱型二氧化矽，其表面均含有矽烷醇(Silanol)，而能與矽烷醇基反應的聚矽氧烷端基，必須具備烷氧基(Alkoxy)或矽烷醇基，同時在路易斯酸(Lewis Ac-Id)或路易斯堿(Lewis Base)的觸媒存在下反應。為使二氧化矽的表面充分與聚矽氧烷分子接觸，必須加入分散劑，為使二氧化矽表面接枝的聚矽氧烷分子量適當，可加入分子量調節劑。
疏水性二氧化矽的制造的方法有二種，方法壹是於玻璃容器中，加入(1)分散劑，如礦物油(Mineral Oil)、有機溶劑(二甲苯)、八甲基四環矽氧烷(Octamethyl Tetracyclosiloxane)或矽油(Silic-One Oil)......；(2)親水性二氧化矽固體粉末(Silica)，其表面積為100～400m2/G，接觸角小於70°；(3)矽油(Silicone Oil)；(4)觸媒，如氫氧化鈉水溶液，氫氧化鉀水溶液，碳酸銨水溶液或硫酸......等酸堿；(5)分子量調節劑，其目的為使接枝於二氧化矽粒子上的矽化合物分子量適當，常用的，如四甲基二矽氧烷(Tetramethyl Disiloxane)、六甲基二矽氧烷(Hexamethyl Disi-Loxane)或五甲基甲氧矽烷(Pentamethyl Methoxysilane)。以均質機混合均質化，5至20分鐘，然後升溫至60℃～80℃，繼續攪拌均質化，30分鐘至120分鐘，過濾並以有機溶劑(如二甲苯)萃洗反應所得的疏水性二氧化矽固體粉末，在約120℃的烘箱中，幹燥約6小時。另壹方法是除了以矽化合物單體代替矽油，其他反應物與方法壹同樣，常用的矽化合物單體如四甲基二甲氧矽烷(Tetrameth-Yl Dimethoxysilane)，因為其本身兼具分散的功能，可不加其他的分散劑。至於反應方法，除了以均質機混合均質化以外，在升溫後，同時以回流(Reflux)方式，以利反應，回流時間約10～30分鐘，反應完成後，抽真空，以去除殘存的矽化合物，再以有機溶劑(如二甲苯)萃洗並過濾已反應完成的二氧化矽固體粉末，置於120℃的烘箱中，幹燥約6小時，即得矽氧烷接枝的二氧化矽固體粉末。以這種疏水性二氧化矽固體粉末做壓片接觸角測定、FTIR光譜儀測定，以及消泡試驗，結果列於下面的附表中。
為使本發明的上述和其他目的、特征、和優點能更明顯易懂，下文列舉壹較佳實施例，並配合所附表格，作詳細說明如下《實施例1》取80g二甲苯，置於200ml的玻璃容器中，加10g矽油(Dow Cor-Ning，DC-350)，0.1g六甲基二矽氧烷(Hexamethyl Disiloxane)，2滴10wt％氫氧化鈉(Sodium Hydroxide)，20g親水性二氧化矽固體粉末(PPG，Label 20)，該親水性二氧化矽固體粉末的粒徑為30nm，表面積為200m2/G。以均質機，混合均質化10分鐘，再加熱至80℃，繼續混合均質化30分鐘，過濾，再以二甲苯萃洗，所得反應完成的聚矽氧烷接枝二氧化矽固體粉末，置於120℃烘箱中，幹燥約6小時。《實施例二》取80g的四甲基二甲氧矽烷(Tetramethyl Dimethoxy Silane)，置入200ml的玻璃容器中，再加入0.8g五甲基甲氧矽烷(Pentameth-Yl Methoxysilane)，以及2g 20wt％碳酸銨，和20g親水性二氧化矽(PPG，Label 20)，以均質機混合均質化10分鐘，加熱後，繼續混合均質化，並回流20分鐘後，抽真空以去除矽化合物單體，並以二甲苯萃洗並過濾反應完成的聚矽氧烷接枝的二氧化矽固體粉末，置於120℃的烘箱中，幹燥約6小時。消泡試驗·消泡乳液配制分別取親水性二氧化矽的粒子(PPG，Label 20)、實施例壹、二所制得的二氧化矽粒子各1.5g，加入適量的矽油、乳化劑以及分散劑，以均質機混合均質化，成為固含量約20wt％的消泡乳液。·實驗步驟將配制好的起泡劑(Tween 80 0.1％)，置入4個1升的玻璃容器中，預留8公分以上起泡高度，將盛裝Tween 80水溶液的玻璃容器置於25℃恒溫槽，於每個容器中各連接循環泵(Pump)，起動循環泵，測定起泡8公分所需時間，分別滴入10滴已配制好的消泡乳液於不同玻璃容器中，測量消泡所需的時間以及消泡後泡高。
表壹、比較反應前後二氧化矽的接觸角項目 接觸角Lsbel 20(反應前) 0°實施例壹145°實施例二112°表二、比較反應前後二氧化矽FTIR吸收光譜波數(Cm-1) 官能基 反應前 反應後1260 Si-C 無 有2961 Si上有機烷基 無 有3500 -OH 有 無表三、比較反應前後二氧化矽消泡性能Tween 80加消 Tween 80加消泡乳液後項目 泡乳液前泡高消泡時間泡高Label 20 8cm 5分30秒6.5cm(反應前)實施例壹 8cm 2分30秒1cm實施例二 8cm 2分30秒2.5cm用以限定本發明，任何熟悉本技藝者，在不脫離本發明的精神和範圍內，可作壹些變更和修飾，因此本發明的保護範圍當以後附的權利要求書所限定的為準。
權利要求
1.壹種疏水性二氧化矽的制造方法，包括在常溫下，將反應物，親水性二氧化矽固體粉末、矽油、分散劑、觸媒及分子量調節劑加以混合，約5至20分鐘；升溫至60℃至80℃，持續混合，約30分鐘至120分鐘，反應形成疏水性二氧化矽；以溶劑萃洗並過濾上述疏水性二氧化矽；去除該溶劑及剩余的反應物。
2.按權利要求1所述的制造方法，其中，所述親水性二氧化矽固體粉末的接觸角小於70度。
3.按權利要求1所述的制造方法，其中，所述親水性二氧化矽固體粉末的表面積為每克100至400平方米。
4.按權利要求1所述的制造方法，其中，所述分散劑是礦物油、八甲基四環矽氧烷或二甲苯。
5.如權利要求1所述的制造方法，其中，所述觸媒是氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸銨或硫酸。
6.按權利要求1所述的制造方法，其中，所述分子量調節劑是六甲基二矽氧烷、五甲基甲氧矽烷或四甲基二矽氧烷。
7.按權利要求1所述的制造方法，其中，所述混合是以均質機完成。
8.按權利要求1所述的制造方法，其中，所述溶劑是二甲苯。
9.按權利要求1所述的制造方法，其中，所述去除溶劑及剩余反應物的方法，是在120℃烘箱，幹燥6小時。
10.按權利要求1所述的制造方法，其中，所述親水性二氧化矽為該矽油的2至3倍重。
11.按權利要求1所述的制造方法，其中，所述觸媒用量為0.1至1重量百分比。
12.壹種使用權利要求1所述制造方法而制得的疏水性二氧化矽、其疏水接觸角為70至150度。
13.壹種疏水性二氧化矽的制造方法，包括在常溫下，將反應物，親水性二氧化矽固體粉末、矽化合物單體、觸媒及分子量調節劑加以混合，約5至20分鐘；升溫至反應物的沸點，繼續混合，並回流10至30分鐘，以反應形成疏水性二氧化矽；以溶劑萃洗並過濾上述疏水性二氧化矽；去除該溶劑及剩余的反應物。
14.按權利要求13所述的制造方法，其中，所述親水性二氧化矽固體粉末，其接觸角小於70度。
15.按權利要求13所述的制造方法，其中，所述親水性二氧化矽固體粉末，其表面積為每克含100至400平方米。
16.按權利要求13所述的制造方法，其中，所述矽化合物單體是四甲基二甲氧矽烷。
17.按權利要求13所述的制造方法，其中，所述觸媒是氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸銨或硫酸。
18.按權利要求13所述的制造方法，其中，所述分子量調節劑是六甲基二矽氧烷、五甲基甲氧矽烷或四甲基二矽氧烷。
19.按權利要求13所述的制造方法，其中，所述混合是以均質機完成。
20.按權利要求13所述的制造方法，其中，所述溶劑是二甲苯。
21.按權利要求13所述的制造方法，其中，所述去除溶劑及剩余反應物的方法，是在120℃煤箱，幹燥6小時。
22.按權利要求13所述的制造方法，其中，所述觸媒用量為0.1至1重量百分比。
23.壹種使用權利要求13所述制造方法所制得的疏水性二氧化矽、其疏水接觸角為70至150度。