拓景科技股份有限公司(以下簡稱“拓景公司”或“本公司”)成立於2010年4月，2021，12年6月變更為股份有限公司。公司總部位於遼寧省沈陽市渾南區，在北京、上海、海寧設立了三家子公司。公司主要從事高端半導體專用設備的研發、生產、銷售和技術服務。公司專註的半導體薄膜沈積設備與光刻機和蝕刻機壹起構成了芯片制造的三大主要設備。公司多次承擔國家重大科技項目，被中國半導體行業協會評為2016、2017、2019年度“中國半導體裝備五強企業”。
公司主要產品包括等離子體增強化學氣相沈積(PECVD)設備、原子層沈積(ALD)設備和低於大氣壓的化學氣相沈積(SACVD)設備。技術指標達到了世界同類產品的先進水平。產品主要應用於集成電路晶圓制造，以及TSV封裝、光波導、微型LED、有機發光二極管顯示等高端技術領域。目前，公司開發的PECVD、ALD、SACVD設備系列產品已累計出貨超過150臺，客戶總數超過15萬。公司產品獲得中國集成電路創新聯盟兩項IC技術創新獎和遼寧省科技進步壹等獎。
公司擁有十余名海外高層次專家，結合國內優秀人才，形成了壹支具有高科技R&D實力和管理經驗的國際化專業團隊。截至2021年6月30日，公司員工總數超過350人(含子公司)。通過多年的技術積累，公司形成了自主知識產權體系。截至2021年6月30日，累計授權專利數超過160件，被國家知識產權局評為“國家知識產權示範企業(2019-2022)”。
公司總部占地80畝，總建築面積40000平方米。擁有現代化的辦公樓和高檔潔凈車間，先進完備的潔凈實驗室和壹系列高端薄膜實驗設備，用於研發和生產技術領先的半導體薄膜設備。公司產業化基地壹期產能可實現年產100套，全部可達350套設備，可滿足下遊客戶增產需求。
公司擁有全球供應商網絡，在北京、上海、武漢、合肥、天津、臺灣省等20多個地區的近40條生產線設有技術服務中心，可為客戶提供全天候的技術服務。公司運營管理體系通過了ISO9001、ISO14001、ISO45001體系認證。
公司願與業界夥伴建立真誠、友好、共贏的產業合作聯盟，為中國乃至世界半導體產業的發展做出貢獻。