月初壹條“中科院5nm激光光刻技術突破”的新聞火了，在很多無良自媒體的口中這則新聞完全變了味，給人的感覺像是中國不久將會擁有自己的5nm光刻機，其實真實情況完全不是壹回事。下面我們就來談談這則新聞真實的內容到底是什麽，以及中國光刻機5nm生產技術還要多久才能取得突破。
中科院5nm的光刻技術和光刻機關系不大其實“中科院5nm激光光刻技術突破”的新聞來源是在中科院網站上的壹篇論文，文章的主要內容其實是講微納加工領域裏的壹個進展，中心思想是超高精度的無掩模的激光直接刻寫。由於文章中采用了壹個叫“lighography”的詞，這個直接翻譯過來就是光刻的意思。再加上5nm這個數值，很容易讓人聯想到的是中科院在5nm的光刻機上取得突破。由於壹些自媒體翻譯錯誤以及想要煽動公眾情緒獲取大量的流量，於是這個錯誤的新聞就得到了大量的傳播轉發，進而誤導了不少關心中國光刻機發展的朋友。
論文和完全商用是兩碼事其實就算論文講的真是在光刻機領域取得的突破，但是想要完全商用並不容易。前段時間“碳基芯片”這個概念也上了壹陣子熱搜，碳基芯片具有成本更低、功耗更小、效率更高等優點，並且在未來可能用於我們的手機或者電腦的芯片方面。為什麽熱度沒有能夠持續下去？最主要的原因還是因為它的商用遙遙無期。碳基芯片現在還是停留在實驗室階段，想要完全商用最起碼要二十年以上，這就註定了它和現在主流的矽基芯片沒有任何的競爭力。同理就算中科院的論文講的是5nm光刻機技術，想要完全實現商用不知道還要多久。
中國和荷蘭ASML的差距最起碼也在十年以上現在國內最好的光刻機生產企業應該是上海微電子，目前生產的最好光刻機也只是90nm的制程。盡管有傳言說上海微電子明年將會推出28nm的全新光刻機，但是和ASML的EUV光刻機精度依舊相差甚遠。中國想要生產5nm的光刻機有壹個最大的難點，就是自主研發。這不光意味著我們需要跨越從28nm到5nm這個巨大的障礙，並且在突破的過程中最好不要使用其他國家的專利，只能發展出壹條屬於自己的光刻機道路。需要達成這麽多的條件，研發的難度可想而知。總的來說短時間內我國的光刻機技術取得重大突破的概率為0，還是要被人牽著鼻子走。落後就要被挨打卡脖子在任何時候都是真理，只希望我們國家的科研人員能夠迎頭趕上，盡快取得突破吧。