目前，上海微電子已經量產了最先進的SSA600/20系列光刻機，仍然采用193nmArF光源技術，可用於低端90nm芯片。更重要的是，上海微電子的光刻機設備在國內低端光刻機設備領域占有近80%的市場份額。據國內官媒最新報道，上海微電子28nm工藝節點的下壹代光刻機明年可以量產交付，這意味著國產光刻機設備即將掀起中國換代的浪潮。取得重大技術突破的上海微電子，未來發展潛力無限。上海微電子設備有限公司位於張江高科技園區，毗鄰國家集成電路產業基地、國家半導體照明產業基地、國家863信息安全成果產業化(東部)基地等多個國家級基地。公司成立於2002年，主要致力於R&D、大規模工業生產用投影光刻機的生產、銷售和服務。其產品可廣泛應用於IC制造和先進封裝、MEMS、TSV/3D、TFT-有機發光二極管等制造領域。
目前，中國的光刻機制造商發展迅速。雖然他們比西方國家落後壹步，但未來是光明的。光刻機的種類和品牌很多，重要功能也不壹樣。MaskAligner又稱掩模對準曝光機、曝光系統、光刻系統，是制造芯片的核心設備。它使用類似於照片印刷的技術，通過曝光將掩模上的精細圖案印刷到矽片上。光刻機品牌眾多，根據技術路線的不同可以分為以下幾類:高端投影光刻機分為步進投影和掃描投影光刻機兩種，分辨率通常在七納米到幾微米之間。高端光刻機被稱為世界上最精密的儀器，世界上有價格1.2億美元的光刻機。高端光刻機堪稱現代光學產業之花，其制造難度之大，全球只有少數幾家公司能夠制造。國外品牌主要是荷蘭的阿斯麥(鏡頭來自德國)、日本的尼康(高端光刻機，英特爾曾經從它手裏買過尼康)和日本的佳能。位於中國上海的SMEE公司開發了具有自主知識產權的投影式中檔光刻機，形成了產品系列，初步實現了國內外銷售。R&D和其他系列產品的生產正在進行中。用於生產線和R&D的低端光刻機是接近式和接觸式光刻機，分辨率通常在幾微米以上。主要有德國sus，美國MYCRONXQ4006，中國品牌。
光刻機按照操作的簡單程度壹般分為三種:手動、半自動和全自動。a手動:指對準的調整方式，即通過手動調整旋鈕改變其X軸、Y軸和thita角度來完成對準，對準精度可想而知低；b半自動:是指通過電軸可以根據CCD進行定位和調準；c自動:指從基板上傳下載，曝光時長和周期由程序控制。自動光刻機主要滿足工廠對處理能力的需求。高精度對準系統的制造需要近乎完美的精密機械技術，這也是國產光刻機無法企及的技術難點之壹。很多美國德國品牌的光刻機都有專門的專利機械技術設計。比如Mycron &；q光刻機采用全氣動軸承設計專利技術，有效避免軸承機械摩擦帶來的工藝誤差。對準系統的另壹個技術問題是對準顯微鏡。為了增強顯微鏡的視野，很多高端光刻機都采用了LED照明。有兩個帶聚焦功能的對準系統。主要是1對顯微鏡主體、目鏡和物鏡采用雙目雙視場對準(光刻機通常提供不同放大率的目鏡和物鏡供用戶組合使用)。CCD對準系統的作用是放大掩模和樣品的對準標記，並在監視器上成像。