蘇大威格主要生產激光直寫光刻機，而不是做芯片的掩膜光刻機。雖然蘇大威格在投資者互動平臺上表示，公司光刻機實現了對國內領先芯片公司的銷售和對日本、韓國、以色列等國家的出口，但這裏所指的光刻機並不是用於制造芯片的光刻機，公司的光刻設備也不能直接用於芯片研發和制造，因此主要技術參數與行業領先廠商差距較大。
光刻機是芯片制造的核心設備，但光刻機只是芯片制造的工具，擁有芯片的設計原理圖也很重要。要充分發揮光刻機的所有功能，制造高端芯片，就需要有完整的芯片產業鏈，包括設計、制造、封裝、測試，以及優秀的技術人員和先進的工藝水平來制造高端芯片。
蘇大衛格面膜光刻機介紹
蘇達威的光刻機是壹種通過激光直接在光刻膠上描繪圖案的技術。在不使用掩膜的情況下，可以靈活使用激光波長，選擇合適的波長對光刻膠進行曝光。它的應用範圍很廣，可以應用在科研、教育、醫療等領域。
與ASLM的EUV掩模光刻機不同，蘇大威格的掩模光刻機只能在特定波長下曝光。這種靈活性使得蘇大威格的光刻機適用於不同的應用場景，具有更廣闊的應用前景。雖然蘇大威格在科研、教育領域的光刻機銷售取得了不錯的成績，但其在光刻機市場的整體份額仍然較小，需要積極開發新壹代光刻機產品，以滿足日益增長的市場需求。
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