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duv是什麽意思?

Duv是深紫外光,主要指波長小於i-line365nm的紫外光。工業上壹般有193arf和248nmkrf激光器。

euv和duv的區別:

1,處理範圍不壹樣。Duv:基本上只能做到25nm。英特爾憑借雙級模式已經做到了10nm,但10nm以下是達不到的。Euv:可滿足10nm以下晶圓制造要求,可擴展至5nm、3nm。

2.發光原理不同。Duv:光源為準分子激光,光源波長可達193 nm。Euv:激光激發等離子體發射EUV光子,光源波長為13.5 nm。

3.光路系統不壹樣。Duv:主要利用光的折射原理。其中,浸沒式光刻機會在投影鏡頭和晶圓之間填充去離子水,使193nm的光波相當於134nm。Euv:利用光的反射原理,內部必須在真空中操作。

極紫外光刻,通常稱為EUV光刻,是壹種以波長為10-14 nm的極紫外光為光源的光刻技術。具體地,使用波長為13.4nm的紫外線。極紫外(EUV)是指紫外線管的K極需要通電,然後發出紫外線。

掩模對準器簡介

光刻機又稱掩模對準曝光機、曝光系統和光刻系統,是制造芯片的核心設備。它使用類似於照片印刷的技術,通過曝光將掩模上的精細圖案印刷到矽片上。

高精度對準系統的制造需要近乎完美的精密機械技術,這也是國產光刻機無法企及的技術難點之壹。很多美國德國品牌的光刻機都有專門的專利機械技術設計。比如mycon &;q光刻機采用全氣動軸承設計專利技術,有效避免軸承機械摩擦帶來的工藝誤差。

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