我國九十納米的光刻機，在這個領域水平的應當屬於壹流水平。
但是還遠遠比不上國外的水平，畢竟國外的光刻機能夠制作十納米以內的芯片，而這壹年我國目前還是遠遠無法做到的。對此我國也正在努力進行追趕，但是短期之內還暫時無法實現，畢竟我國在光刻機這壹步起步要遠遠晚於國外。並且很多技術都已經被國外壟斷，我國只能夠自主進行設計，期待有壹天能夠實現彎道超車。
我國芯片水平難以前進，這與人才有關。我國芯片水平局限於當前，這個標準與人才有關。我國無法培養出相關方面的人才，畢竟在這壹領域內，我國還無法和西方進行比較。尤其是在人才方面根本無法和西方進行對比。這也導致我們沒有優秀的工程師，只能夠請國外的高薪工程師。但是國外請來的高薪工程師對技術把關非常嚴格，壹般情況下是不會將技術透露給我國工程師，這也導致我國芯片水平局限於當前尷尬的地步。
第二點便是資金不夠。這裏所說的資金不夠，並不是所說的投資不夠，而是光刻機芯片這壹行業的利潤不夠。因為我國目前市場上的芯片都是由外國制造的，國產芯片在我國市場根本沒有任何競爭空間。這也導致了很多科技公司不願意往芯片這個方面發展，這也是我國芯片落後於西方國家的其中壹個原因。
第三點便是沒有自主設計專利。目前國際上的芯片設計專利都已經被國外的光刻機公司壟斷，我國能夠申請的專利少之又少。基本上芯片設計的所有方面的專利都已經申請完了，剩下的專利技術對於芯片提升來說用處不大。所以歸根結底以上三點便是我國芯片落後於西方國家的根本原因。