-資料來源:上海微電子、官網和光刻機。光刻機是半導體芯片制造行業的核心設備，是芯片制造過程中的重要環節。可以說，光刻機直接決定了芯片的質量。同時也代表了高端半導體設備的制造水平，支撐了集成電路產業的發展。然而目前荷蘭阿斯麥壟斷了高端光刻機的市場份額，日本尼康和佳能在中端卻同時爭奪低端市場。而上海微電子只有低端的光刻機市場。至於28nm，14nm，7nm這些級別，距離還是比較遠的。
為什麽掩模對準器很難？光刻機涉及的技術非常復雜，需要很多頂尖企業的合作。荷蘭的阿斯麥不是自己做，而是和英特爾、臺積電、三星、海思等多家芯片巨頭合作。國內制造高端光刻機存在各種各樣的阻滯問題。壹方面因素源於我們無法自主生產這些高端零件，這也是國內光刻機90mm長期停滯不前的原因。其次，光刻機最難的是紫外激光光源。它需要通過光束校正器、能量控制器、光束形狀設置和快門獲得頻率穩定、能量均勻的光源。還有鏡頭模組，這是壹個極其復雜的系統工程，要保證光線穿過物鏡不變形。這些無疑給生產制造帶來很大阻力。此外，掩模對準器對準系統需要具有近乎完美的精密機械技術。它涉及系統集成、精密光學、精密運動、精密材料傳輸、高精度微環境控制等多項先進技術。
目前國內相關機構也在重點研究光刻機技術的突破。比如中科院光電所研發了22nm的光刻分辨率，結合雙曝光技術，可以制造10nm芯片。但需要明確的是，光刻機要實現量產，需要幾萬個零件的高精度支撐，國內產業鏈還沒有達到。的確，芯片制造和壹些發達國家差距很大，主要是光刻機的限制。自主生產高端零部件很難，生產紫外光很難，生產精密機械很難……即使是國內最先進的上海微電子也還有很長的路要走。