按照國務院的規劃，到2025年國產芯片自給率將達到70%。2019年，這個數字是30%左右。
目前，中國的芯片產業面臨兩大問題。如果能克服這兩個困難，自給率70%的目標就不成問題。
前門資產投資研究總監宣繼遊在接受《證券日報》采訪時表示，制造工藝、光刻機和工業軟件是制約我國半導體芯片發展的兩大因素。
光刻機直接關系到半導體制造精度，決定了芯片最先進的工藝。
為了突破10nm芯片工藝節點，光源波長為13.5nm的EUV光刻機必不可少。這就是為什麽三星和臺積電每年都要爭奪阿斯麥EUV光刻機的產能。
目前，阿斯麥是世界上唯壹能生產EUV光刻機的公司。
但中國要突破光刻機問題，難度極大。光刻機被譽為“現代半導體行業皇冠上的明珠”，技術含量很高，可以說是現代頂尖技術的結晶。
在阿斯麥背後，只有在5000家供應商的支持下，才能生產出EUV光刻機。所以中國和光刻機很難突破。
工業軟件是工業制造命脈。其中，EDA作為“芯片之母”，位於整個芯片產業的最上遊，很容易卡在全球芯片產業的脖子上。
遺憾的是，中國的EDA產業正在被海外壟斷。美國的Candence、Synopsys和Mentor Graphics占據了中國95%的市場。
華為、中興、聯想等。全部采用以上企業的EDA產品。
這必須引起警惕。好在中國在EDA領域有了小小的突破，其中華大九天是國內EDA的領頭羊。
如今，華大九天已將用於晶圓制造的EDA工具等產品商業化，贏得紫光展銳、華為等400多家客戶。
從上面可以看出，國產芯片想要彎道超車並不是壹件容易的事情，需要克服很多困難。
宣繼遊還表示，從根本上解決這兩個問題的可能性很低，需要“重點關註過了專利期的普通產品是否可以復制，提高芯片的自給率”。
近年來，中國出臺了越來越多的政策來加速半導體產業的進步。
同時，中國是全球最大的半導體市場，巨大的需求將刺激中國相關企業的發展。越來越多的資本也湧入了中國的半導體行業。
受此影響，中國實現70%芯片自給的目標還是有很大希望的。